電子級多晶矽還原爐鍾罩自動清洗係（xì）統成功問世

多（duō）晶矽是用工業矽通過化學、物理途徑提純製得，多晶矽主要用於生產單（dān）晶矽和衛星太陽能電池。單晶矽即矽半導體是多晶（jīng）矽的衍生產品，是製造繼承電路和電子（zǐ）元件的優質材料，被廣泛應用於電子（zǐ）工業中。

還原爐（lú）沉積（jī）多晶矽是間（jiān）歇操作，一個運行周期內，矽棒不斷長大，一個運行周期結束後打開鍾罩（zhào）收割矽棒。但在運行期內，基盤及鍾罩（zhào）表麵均會產（chǎn）生（shēng）一（yī）層土黃色粉末，其主要（yào）成分是無（wú）定形矽。在收割矽棒後，需要進行基盤和鍾罩的清理，再裝矽芯進行下一個周期的化學氣相沉積。
 
還原爐鍾罩汙染物易造成內（nèi）表麵熱（rè）量反射減少，使生產能耗增加；電極周圍汙染物降低了點擊的（de）絕緣而（ér）導致運行過（guò）程中接地（dì）故障、倒棒等（děng）生（shēng）產事故。而用於電子（zǐ）行業的多晶（jīng）矽對（duì）產品質量（liàng）純淨度的控製要求更高，

隨著我國（guó）半導體工業（yè）發展，對（duì）多晶矽純度要（yào）求（qiú）越來越高，還原（yuán）爐沉積環境的潔淨度就顯得特（tè）別關（guān）鍵，任何顆粒性雜質、油脂等物質餘留在爐內，都會對產品質量造成影響。那麽（me），如何清理能（néng）方便（biàn）快捷，同時效果更佳（jiā）？

多晶矽還原爐清洗係統始於2009年，國內第一家研發設計製造並獲（huò）得實用（yòng）新型專利是北京德高潔清潔設備有限公司，該（gāi）公司多晶矽還原爐鍾罩清洗係統覆蓋了國內多家多晶矽生產企業。早期有高壓清洗、化學溶劑低壓清洗、機械拋光等（děng），但大多釆用堿液中壓清洗，這些清洗方式不僅不能將鍾（zhōng）罩清洗幹淨，還會損傷表麵鍍銀的還原爐鍾罩，為（wéi）攻克這一（yī）難（nán）題（tí），一款全新的用於電子級的多晶矽還（hái）原爐鍾罩清洗係統應運而生。

電子級多晶矽還原爐鍾罩自（zì）動清洗係統特點：

1、多晶矽還原爐鍾罩清洗係統以水為（wéi）動力（lì），以水力自（zì）驅動三維（wéi）洗罐器為噴（pēn）頭，形成360° 3D形式（shì）的網狀噴射來完成爐筒內部表麵的水力掃射。

2、采用可以旋轉和升降的清洗吹幹執行機構，根據還原爐每個視孔鏡相對原（yuán）點的相對位置進行準確定位。可（kě）自動切換不同清洗液及吹幹，通過控製係統可對清洗（xǐ）、吹幹時間等進行調整。清洗時隻需一鍵操作即可（kě），操作簡單方便。

3、根據還原爐底部法蘭的結構特設計升級後的清洗工作台，不僅可（kě）以滿足對內壁和（hé）視孔鏡的清洗，同時也滿足（zú）了底部法蘭的清洗。可實現對法蘭內邊緣的清洗，保證整個法蘭（lán）底部都被（bèi）清（qīng）洗液覆蓋，並清洗、吹幹。

4、在整個還原爐的清洗過程中，清洗、幹燥中筒內形成微負壓（yā）狀態，防止清洗外溢，同時將底座與（yǔ）筒體下法蘭處的汙染（rǎn）物（wù）等一並吹掃，通過排汙管排出，從而保證了整個過程不（bú）會對潔淨區造成汙染。
 
經過實際應用，多晶矽還原爐清洗係統整套係統可實（shí）現全自動（dòng）化清（qīng）洗操作，在（zài）一個工作（zuò）平（píng）台上，一次吊裝可依次實現自動清洗烘幹全部功（gōng）能，完（wán）全實現無死角清洗，同時（shí）具有完善的聯鎖和保護功能。