多晶矽還原爐內（nèi）主要汙染物及清洗（xǐ）工藝（yì）

從2010年至今，光伏產業呈現出了強勢的（de）複蘇（sū）態（tài）勢（shì），光伏市場需求旺盛。高純多晶（jīng）矽是電子工業和太陽能光伏產（chǎn）業的基礎原料也是主要（yào）原料，在（zài）整個（gè）生產過程中，對產品（pǐn）質量的控製要求（qiú）很高。目（mù）前，生產多晶矽主要（yào）采用（yòng）改良西（xī）門子法，對還原爐的沉積環境（jìng）的潔淨度要求特別關（guān）鍵，任何顆粒性雜質、油脂等物（wù）質餘留在爐內（nèi），都會對產品質量（liàng）造成影響。
 
一、多晶矽還原爐內主要汙染物

根據多晶矽（guī）生產原理及實際生產（chǎn）情況分（fèn）析，還原爐基盤及鍾罩表麵主要汙染物為無（wú）定形矽粉（fěn），其（qí）次為多晶矽（guī）顆粒物、氯矽烷水（shuǐ）解物及部分粉（fěn）塵雜質。

1、無定形矽

還原（yuán）爐（lú）在一個周期運行後，基盤及鍾罩表麵均會產生一層土黃色粉末，主（zhǔ）要成分為（wéi）無定形矽粉（fěn）。基盤冷卻（què）水溫度偏高（gāo），在還原爐基盤尾（wěi）氣出口也會產生無定形矽。這些無定形矽易形成一層膜附在基盤和鍾罩內表麵，甚至在（zài）電（diàn）極和石（shí）英環表麵。

2、氯矽烷水解物

多晶矽打開鍾罩前要進行（háng）嚴格的（de）氮氣置換（huàn），但因還原爐結構複雜，在進料口、尾氣管、窺視鏡等地（dì）方易形（xíng）成置換死角，置換後爐內（nèi）仍會預留部分氯矽烷氣體。當爐筒提起後，氯矽烷殘留氣體與空氣接觸，會（huì）在基盤及爐筒表（biǎo）麵形成水解物。這些水解物一般附著在進料管口（kǒu）及尾（wěi）氣管口，其中矽酸鹽物質為白（bái）色膠狀沉澱，二氧化矽為白色粉末狀（zhuàng）固體，氯化氫（qīng）遇潮形成鹽酸殘留在基盤（pán）表麵。

3、多晶矽顆粒物

還原爐（lú）停爐過程中，因停爐溫度控製不均（jun1），易造成矽棒破裂，產生多晶矽碎屑；收割矽棒過程中也會有部分碎屑遺留；如果遇（yù）到倒棒，碎屑遺留會（huì）更多。

4、其他雜物

在收割（gē）矽棒（bàng）中，會帶入少量的粉塵（chén）、油脂等汙染物。油分子對多晶矽的危害十分嚴重可能造成多晶矽反應速度減慢，產（chǎn）量降（jiàng）低，甚至矽反應停止。

二、多晶矽還原爐（lú）清洗方法
 
現今各生產廠家（jiā）在開發（fā）新技術（shù）、進行技術改造的同時，通過對設備的清洗來降低能耗和（hé）保證多晶矽的產（chǎn）品質量。還原爐沉積（jī）多晶矽是間歇操作，一個運行周期結（jié）束後需要打開鍾罩收割矽棒，然後進行基（jī）盤清理，再裝矽芯進行下（xià）一個周期的化（huà）學氣相沉積。因此，想提高（gāo）設備運轉率、降低能（néng）耗，選（xuǎn）擇方便、快捷（jié）、處理效（xiào）果好的清理工藝尤為關鍵。

德高潔多晶矽還原爐鍾罩清洗係統是以高壓清洗機為主機，以高壓水射流為動力的自驅動三維（wéi）旋轉噴頭形成360°的網狀高壓水柱噴射表麵，從而完成鍾罩內部表麵的水力掃射，並采用專用清洗劑等為主要清洗液，先用純水（去離（lí）子水或叫脫鹽水）漂洗（xǐ），之後再（zài）采用高純水衝洗，最終完成清洗過程。

德高潔多晶矽還（hái）原（yuán）爐鍾罩清洗係統核心部件高壓泵采用進口耐酸堿、耐高溫、全不鏽鋼的加壓泵，並利用多晶矽（guī）生產廠家的蒸汽餘熱將清洗介（jiè）質加熱，從而改變原電加熱工藝。我公司自行研發設計的自驅動旋轉升降噴射機構可適應（yīng）各規格的還原爐體。