電子級多（duō）晶矽還原爐鍾罩內部清洗要求及清洗方式
時間：2024-11-25 15:41:00作者：LeeZhou來源：德高潔清潔（jié）設備
多晶（jīng）矽分太陽能（néng）級和電（diàn）子級兩大類，電子級多晶矽是目前最高純度等級的多晶矽產品，主（zhǔ）要作為矽片及芯片等生產的原材料，是集成電路（lù）產業的核心關（guān）鍵基礎原料。電子級多晶矽的純度要求則為99.9999999%~99.999999999%，即（9N到11N），電子級多晶矽的高（gāo）純度要求相當苛刻，如5000噸的電子級多晶矽中總的雜質含量僅相當於一枚1元硬幣的重量。
由於多（duō）晶矽純度會嚴重影響到單晶（jīng）矽拉製環節，所以電子級多晶矽雜質含量要求更為苛刻（kè），電子級多晶矽生產（chǎn）廠家在工藝流程、設備（bèi）維護、產品（pǐn）運輸等多方麵進行提升，以提高企業的競爭力（lì）度（dù）。而在電子（zǐ）級多晶矽改良西門子法生產（chǎn）工藝中，還原爐是整個多晶矽生產係（xì）統的“心髒”部件，也是影響實際產量最核心的工（gōng）藝環節，生產出來的多（duō）晶矽質量的優劣取決於它，因此還原爐鍾罩內壁（bì）的清潔（jié）度直接影響最終產品的質量，同時（shí），作（zuò）為多晶矽的生產電耗比重首位的熱沉（chén）積反應（yīng）器，其內壁的光（guāng）潔（jié）可（kě）以有（yǒu）效降低還原電耗，所以在電（diàn）子級多晶矽生產過程中（zhōng），多（duō）晶矽還原爐鍾罩內部清潔至關重要。
一、電子級（jí）多晶矽還原爐鍾罩清（qīng）洗要求
1、潔淨度（dù）要求
清洗過程中要（yào）確保潔淨度達到電子級別的標準，這通常（cháng）意（yì）味（wèi）著要徹底去除鍾罩表麵的（de）所有（yǒu）塵埃、汙垢和任何可能（néng）對矽片（piàn）產生負麵（miàn）影響的雜（zá）質。
2、避免（miǎn）化學汙染
清洗過程中使用的化學品必須是高純度的，並且不得留下任何殘留物。使用去離子（zǐ）水（DI水）等（děng）高純度水源是必要的，以避免引入任何額外的離子或雜質。
3、溫（wēn）度控製
清洗過程中的（de）溫度應該在適當（dāng）的範圍內，以確保清洗劑的有效性，並防止對（duì）設備產生不（bú）良影響。同時，溫度控製也有助於防止在清洗過程中產生的水汽對設備腐蝕。
4、機（jī）械清洗
對鍾罩表（biǎo）麵的機械（xiè）清洗應該是適用而（ér）徹底的，以在不傷害其內部表麵結構的情況下，去除附著在表麵的任何顆（kē）粒或雜質。
5、避免靜電
電子級多晶矽（guī）生產對靜（jìng）電敏感，在清洗過程（chéng）中要注意避免靜（jìng）電的產生。
6、實時（shí）監測和控製
清（qīng）洗過程中要實時（shí）監測（cè）清洗效果，確保達（dá）到規定的潔淨度標準。
7、設備保養
清洗設備本（běn）身也需要定期保（bǎo）養，以確保其（qí）正常運行（háng）且不會引入額外的汙染。
8、符合行業標準
清洗過程應符合相關的（de）行業標準和規範，以確保清洗的效（xiào）果和可重複性。
在進行電子級多晶矽（guī）還原爐鍾罩清（qīng）洗（xǐ）時，以上要求都是為了確保最終生產的矽片（piàn）符合高純度和高質量的（de）要求。這些（xiē）要求有助於避免因為鍾罩表麵殘留的汙染物而引入缺陷，從而影（yǐng）響（xiǎng）電子級多晶矽矽片的生產（chǎn）質量，應（yīng）對於（yú）以上的清洗（xǐ）要求，普（pǔ）通的還原爐鍾罩清洗方式處理速度慢、清洗質（zhì）量不均勻，且整體自動化程度低；因此需要一種高效、快速、自動化（huà）程度高的多晶矽還原爐鍾罩內壁清洗方式（shì）。
二、電子級多晶矽還原爐鍾罩高效清洗方式（shì）
德高潔高壓水電子（zǐ）級多晶矽還原爐鍾罩清洗係統，由高壓熱水清洗係統、熱風淨化烘幹係統、控製係統等組成，係統操作簡單，自（zì）動（dòng）化程度（dù）高，整個清洗工藝包含：還原爐鍾罩到位→預清洗→清洗劑(堿液（yè）)清洗→漂洗→高壓純水衝洗→淨化熱空氣幹燥→常溫幹燥→鍾罩吊走，全程僅需人工輔助作業，解決傳統（tǒng）人工清洗不（bú）安全、不環保、清洗效果差、自動化程度（dù）低、效率不高的缺陷。
采用PLC+觸摸屏柔性自動控製係統，能實現對還原爐鍾罩的自（zì）動清洗和烘幹，清洗烘幹時間、溫度（dù）、清洗、漂洗等工（gōng）藝參數可以根據需要自行調整設定，同時具有半自動或手動功能。一次吊裝在一個工作台上完成全部（bù）清洗、烘幹過程，可實現遠程對樓下設備的控製和主要參數監控。
全密閉式清洗烘幹係統，清洗時采（cǎi）用高壓水三維（wéi）立（lì）體清洗技術（shù），以水力自驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形（xíng）式的網狀噴射（shè）來完成（chéng）爐筒內部表麵的水力（lì）掃射，實現內部無死角清洗，以水為清洗介質可有效避免靜電的產生，清洗後旋轉和升降清洗吹幹執行機構，根（gēn）據還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位置（zhì）進行準確定（dìng）位，可自動切換不同清洗液及（jí）吹幹，通過控製係統可對清洗、吹幹時間等進行調整，清洗時隻需（xū）一鍵操作即可，操作簡單方便。
在整個（gè）還原爐的清洗過程（chéng）中，清洗（xǐ）、幹燥中（zhōng）筒內形成（chéng）微負壓（yā）狀態，防止清洗外溢，清洗後的廢（fèi）水廢氣處理係統可使（shǐ）汙染物（wù）(廢氣、廢水等)在受控（kòng）的（de）條件下（xià），按設計出口排放，基本消除了（le）對現（xiàn）場及操作人員的汙染。
德高潔高壓水電子級多晶矽還原爐（lú）鍾罩清洗係統，其核心部件（jiàn）、元件和附件原裝進（jìn）口保證了電子級多晶矽鍾罩清洗係統性能的可靠，可以在一（yī）套係統實現多種型號鍾罩的清（qīng）洗烘幹。除此之外，根據還原爐底（dǐ）部法蘭的結構特殊設計升級後的清洗工作台，不僅可以滿足對內壁和視孔鏡的清洗，同時也滿（mǎn）足了底（dǐ）部法蘭的清洗。可（kě）實現對法蘭內（nèi）邊緣的清洗，保證整個法蘭底部都被清洗液覆蓋（gài），並（bìng）清洗、吹幹。
目前，德高潔在多晶（jīng）矽還原爐清洗行業已擁有國內（nèi）90%的用戶，為（wéi）多晶矽（guī）行業（yè）提（tí）供了幾十套還原爐清洗係統，如您有需求歡（huān）迎電話谘詢（xún），德高潔將竭（jié）誠為您服（fú）務。
由於多（duō）晶矽純度會嚴重影響到單晶（jīng）矽拉製環節，所以電子級多晶矽雜質含量要求更為苛刻（kè），電子級多晶矽生產（chǎn）廠家在工藝流程、設備（bèi）維護、產品（pǐn）運輸等多方麵進行提升，以提高企業的競爭力（lì）度（dù）。而在電子（zǐ）級多晶矽改良西門子法生產（chǎn）工藝中，還原爐是整個多晶矽生產係（xì）統的“心髒”部件，也是影響實際產量最核心的工（gōng）藝環節，生產出來的多（duō）晶矽質量的優劣取決於它，因此還原爐鍾罩內壁（bì）的清潔（jié）度直接影響最終產品的質量，同時（shí），作（zuò）為多晶矽的生產電耗比重首位的熱沉（chén）積反應（yīng）器，其內壁的光（guāng）潔（jié）可（kě）以有（yǒu）效降低還原電耗，所以在電（diàn）子級多晶矽生產過程中（zhōng），多（duō）晶矽還原爐鍾罩內部清潔至關重要。
一、電子級（jí）多晶矽還原爐鍾罩清（qīng）洗要求
1、潔淨度（dù）要求
清洗過程中要（yào）確保潔淨度達到電子級別的標準，這通常（cháng）意（yì）味（wèi）著要徹底去除鍾罩表麵的（de）所有（yǒu）塵埃、汙垢和任何可能（néng）對矽片（piàn）產生負麵（miàn）影響的雜（zá）質。
2、避免（miǎn）化學汙染
清洗過程中使用的化學品必須是高純度的，並且不得留下任何殘留物。使用去離子（zǐ）水（DI水）等（děng）高純度水源是必要的，以避免引入任何額外的離子或雜質。
3、溫（wēn）度控製
清洗過程中的（de）溫度應該在適當（dāng）的範圍內，以確保清洗劑的有效性，並防止對（duì）設備產生不（bú）良影響。同時，溫度控製也有助於防止在清洗過程中產生的水汽對設備腐蝕。
4、機（jī）械清洗
對鍾罩表（biǎo）麵的機械（xiè）清洗應該是適用而（ér）徹底的，以在不傷害其內部表麵結構的情況下，去除附著在表麵的任何顆（kē）粒或雜質。
5、避免靜電
電子級多晶矽（guī）生產對靜（jìng）電敏感，在清洗過程（chéng）中要注意避免靜（jìng）電的產生。
6、實時（shí）監測和控製
清（qīng）洗過程中要實時（shí）監測（cè）清洗效果，確保達（dá）到規定的潔淨度標準。
7、設備保養
清洗設備本（běn）身也需要定期保（bǎo）養，以確保其（qí）正常運行（háng）且不會引入額外的汙染。
8、符合行業標準
清洗過程應符合相關的（de）行業標準和規範，以確保清洗的效（xiào）果和可重複性。
在進行電子級多晶矽（guī）還原爐鍾罩清（qīng）洗（xǐ）時，以上要求都是為了確保最終生產的矽片（piàn）符合高純度和高質量的（de）要求。這些（xiē）要求有助於避免因為鍾罩表麵殘留的汙染物而引入缺陷，從而影（yǐng）響（xiǎng）電子級多晶矽矽片的生產（chǎn）質量，應（yīng）對於（yú）以上的清洗（xǐ）要求，普（pǔ）通的還原爐鍾罩清洗方式處理速度慢、清洗質（zhì）量不均勻，且整體自動化程度低；因此需要一種高效、快速、自動化（huà）程度高的多晶矽還原爐鍾罩內壁清洗方式（shì）。
二、電子級多晶矽還原爐鍾罩高效清洗方式（shì）
德高潔高壓水電子（zǐ）級多晶矽還原爐鍾罩清洗係統，由高壓熱水清洗係統、熱風淨化烘幹係統、控製係統等組成，係統操作簡單，自（zì）動（dòng）化程度（dù）高，整個清洗工藝包含：還原爐鍾罩到位→預清洗→清洗劑(堿液（yè）)清洗→漂洗→高壓純水衝洗→淨化熱空氣幹燥→常溫幹燥→鍾罩吊走，全程僅需人工輔助作業，解決傳統（tǒng）人工清洗不（bú）安全、不環保、清洗效果差、自動化程度（dù）低、效率不高的缺陷。
采用PLC+觸摸屏柔性自動控製係統，能實現對還原爐鍾罩的自（zì）動清洗和烘幹，清洗烘幹時間、溫度（dù）、清洗、漂洗等工（gōng）藝參數可以根據需要自行調整設定，同時具有半自動或手動功能。一次吊裝在一個工作台上完成全部（bù）清洗、烘幹過程，可實現遠程對樓下設備的控製和主要參數監控。
全密閉式清洗烘幹係統，清洗時采（cǎi）用高壓水三維（wéi）立（lì）體清洗技術（shù），以水力自驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形（xíng）式的網狀噴射（shè）來完成（chéng）爐筒內部表麵的水力（lì）掃射，實現內部無死角清洗，以水為清洗介質可有效避免靜電的產生，清洗後旋轉和升降清洗吹幹執行機構，根（gēn）據還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位置（zhì）進行準確定（dìng）位，可自動切換不同清洗液及（jí）吹幹，通過控製係統可對清洗、吹幹時間等進行調整，清洗時隻需（xū）一鍵操作即可，操作簡單方便。
在整個（gè）還原爐的清洗過程（chéng）中，清洗（xǐ）、幹燥中（zhōng）筒內形成（chéng）微負壓（yā）狀態，防止清洗外溢，清洗後的廢（fèi）水廢氣處理係統可使（shǐ）汙染物（wù）(廢氣、廢水等)在受控（kòng）的（de）條件下（xià），按設計出口排放，基本消除了（le）對現（xiàn）場及操作人員的汙染。
德高潔高壓水電子級多晶矽還原爐（lú）鍾罩清洗係統，其核心部件（jiàn）、元件和附件原裝進（jìn）口保證了電子級多晶矽鍾罩清洗係統性能的可靠，可以在一（yī）套係統實現多種型號鍾罩的清（qīng）洗烘幹。除此之外，根據還原爐底（dǐ）部法蘭的結構特殊設計升級後的清洗工作台，不僅可以滿足對內壁和視孔鏡的清洗，同時也滿（mǎn）足了底（dǐ）部法蘭的清洗。可（kě）實現對法蘭內（nèi）邊緣的清洗，保證整個法蘭底部都被清洗液覆蓋（gài），並（bìng）清洗、吹幹。
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