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多晶矽還原爐體及鍾罩（zhào）幹式清掃裝（zhuāng）置
多（duō）晶矽還（hái）原爐體（tǐ）及鍾罩幹式清掃裝置使用時（shí）利用上下移動和旋轉機構帶動高壓氣體噴吹以及特殊旋轉刷組（zǔ）合機構近距離對反應釜表（biǎo）麵進行噴吹和接觸式清掃達到清洗的目的。通（tōng）過清洗旋轉（zhuǎn）調速機構可滿足各工況的要求。清洗的同時采用特殊（shū）除塵淨化器（qì）一次性進（jìn）行（háng）除塵（chén）淨化。
多晶矽還原爐體及鍾罩幹式清掃裝置 The dry clean system for Bell jar and the reactor base
■適用範圍（wéi）
矽烷法多晶（jīng）矽（guī）生產工藝。
用於還原車間反應釜中矽汙（wū）染物附著力不大的工況條件下無汙染幹式清（qīng）洗。
■工作原理
清洗時利用上下移動和旋（xuán）轉機構帶動高壓氣（qì）體（tǐ）噴（pēn）吹以及特殊旋轉刷組合機構近距離對反應釜表麵進行噴（pēn）吹和接觸式清掃達到清（qīng）洗的目的。通過清洗旋轉調速機構可滿足各工況的（de）要求。清洗的同時采用（yòng）特殊除塵淨化器一次性進行除塵淨化（huà）。
■工藝流程
反應釜吊裝至清洗台上—定位—連接、啟動淨化器—啟動旋轉、上下移動（dòng）機構—高壓氣體沿壁（bì）噴吹—旋轉刷至上而下接（jiē）觸移動清掃—淨化氣體置換—反應釜吊起—檢查。
■設備組成（chéng）及配置
主要由（yóu）清洗平台、氣體噴吹裝置、吸塵輸送管（guǎn）道、控製閥門、動力機構、清洗機構、各管道快速接頭、除（chú）塵淨化器、電氣控製係統等組成。
主要部件采用進口零部件，確保運行可靠穩定、使用周期長。操作維修簡單。
■設備特點
1)裝置為移動單元式結構。
2)淨化後的空氣可達到10萬級的淨化精度可（kě）完全在室內排放。
3)采用全封閉幹式的清洗方式確保對環境不出現二次汙（wū）染。
4)電氣設計按隔爆的各項要求執行、 設備設有靜電導出（chū）裝置。
5)控製方式可為全自動或手動控製。
6)運行總功率小，噪聲低。
